Hlavné rozdiely medzi špeciálnymi plynmi a bežnými priemyselnými plynmi spočívajú v štyroch hlavných dimenziách: čistota, aplikácia, vlastnosti a požiadavky na použitie.
Čo sa týka čistoty, bežné priemyselné plyny majú nižšiu čistotu (napr. priemyselný dusík je väčšinou 99,5 %-99,9 %), pričom spĺňajú len základné priemyselné potreby; špeciálne plyny majú extrémne vysokú čistotu (viac ako alebo rovnú 99,999 %), vhodné pre scenáre s vysokou-presnosťou a vysokými požiadavkami.
Pokiaľ ide o aplikácie, bežné priemyselné plyny sa používajú v scenároch na všeobecné{0}}účely, ako napríklad kyslík na zváranie a rezanie, dusík na jednoduchú inertnú ochranu a oxid uhličitý na hasenie požiarov alebo konzerváciu potravín. špeciálne plyny sa používajú v špecifických procesoch alebo špičkových{1}}oblastiach, ako sú elektronické špeciálne plyny na výrobu čipov, medicínske špeciálne plyny na anestéziu alebo liečbu a špeciálne plyny pre vedecký výskum na špičkové-experimenty.
Pokiaľ ide o vlastnosti, bežné priemyselné plyny sú väčšinou jednozložkové{0}}a stabilné (napr. dusík a argón sú vysoko inertné) s nižším rizikom; špeciálne plyny majú niekedy horľavé, výbušné, toxické alebo vysoko korozívne vlastnosti, čo predstavuje vyššie riziko pre životné prostredie a ľudské zdravie. Z hľadiska požiadaviek na použitie majú bežné priemyselné plyny jednoduché aplikačné procesy a nízke požiadavky na zariadenie a prostredie; špeciálne plyny si vyžadujú špecializované vybavenie, presné ovládanie parametrov (teplota, tlak, prietok) a obsluha musí byť odborne vyškolená.
Z hľadiska aplikačných scenárov sú bežné priemyselné plyny vhodné pre tradičnú priemyselnú výrobu (ako je tavenie ocele a zváranie budov) a základné každodenné potreby (ako je konzervácia potravín a všeobecné rezanie); avšak pre aplikácie v elektronike a polovodičoch, špičkovej{0}}medicínskej starostlivosti, precíznych chemikáliách a špičkovom{1}}vedeckom výskume je potrebné zvoliť zodpovedajúce typy špeciálnych plynov, ako sú špeciálne elektronické plyny na výrobu čipov, hélium s ultra-vysokou čistotou pre zariadenia na zobrazovanie pomocou nukleárnej magnetickej rezonancie a lekársky radón na liečbu nádorov.
